化学工程
采用直流等离子体化学气相沉积法合成金刚石时，往往会有石墨析出。在原料气中引入一定比例的氢气，则可以在很大程度上抑制石墨的析出。氢的作用机理是什么？
题目
采用直流等离子体化学气相沉积法合成金刚石时，往往会有石墨析出。在原料气中引入一定比例的氢气，则可以在很大程度上抑制石墨的析出。氢的作用机理是什么？
如果没有搜索结果，请直接 联系老师 获取答案。
如果没有搜索结果，请直接 联系老师 获取答案。
相似问题和答案
第1题：
什么叫化学气相沉积？
正确答案:化学气相沉积，是在一定的温度下，混合气体之间或者混合气体与基体表面之间相互作用，在基体表面形成金属或火鹤舞等固态膜或镀层，使材料表面改性，以满足耐磨、抗氧化、抗腐蚀以及特定的化学、光学和摩擦学等特殊性能要求的一种技术。
第2题：
食品中铅、镉测定的方法有（）。
- A、电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）
- B、石墨炉原子吸收光谱法
- C、气相色谱法
- D、液相色谱法
正确答案:A,B
第3题：
中国药典测定农药残留量采用( )。
A 气相色谱法
B 高效液相法
C 原子吸收法
D 毛细管电泳法
E 电感耦合等离子体质谱法
参考答案A
第4题：
在光纤的制备方法中，VAD法是指（）。
- A、外部化学气相沉积法
- B、轴向化学气相沉积法
- C、改进的化学气相沉积法
- D、等离子化学气相沉积法
正确答案:B
第5题：
利用气态化合物（或化合物的混合物）在基体受热表面发生化学反应，并在该基体表面生成固态沉积物的技术称（）。
- A、物理气相沉积（PVD）
- B、物理气相沉积（CVD）
- C、化学气相沉积（VCD）
- D、化学气相沉积（CVD）
正确答案:D
第6题：
目前常用刀具涂层方法有（）。
- A、化学气相沉积法
- B、物理气相沉积法
- C、盐浴浸镀法
- D、等离子喷涂
正确答案:A,B
第7题：
生产超细颗粒的方法中PVD和CVD法分别指（）
- A、物理气相沉积法；
- B、化学气相沉积法；
- C、气相法；
- D、固相法
正确答案:A,B
第8题：
目前实验室和工业上经常采用的制备超细粉体材料的方法是()
A、气相法
B、固相法
C、液相法
D、化学气相沉积法
参考答案C
第9题：
化学气相沉积
正确答案: 乃是通过化学反应的方式，利用加热、等离子激励或光辐射等各种能源，在反应器内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。
第10题：
在多晶硅电池片上用等离子体进行的化学气相沉积法生产的氮化硅膜会产生哪两种效果？
正确答案: 两种效应：首先使用等离子体对氢进行活化，然后对晶粒进行钝化。晶界产生的电子能级，在激发下生成载流子，不仅能使短路电流密度减少，而且为了收集载流子而将pn结在晶界横断时，介于能级之间。由于有漏电电流流过，是所谓的反向饱和电流密度变大，从而减少了开路电压。由于活性化的氢有可能侵入到基片深处，所以不仅表面，在基片内部粒界的容积也可以有效地进行钝化，结果：是氢的钝化不仅增加了实际的开路电压，能级密度也同时减少，可用电子自旋共鸣法在实验中得到确认。其次，氮化硅膜中所含的固定载流子会产生表面电位，而由于表面电位的变化，会引起实际的表面复合速度下降。用等离子CVD法叠层得到的膜，从化学键上看，其组成比中发生移动的情况是很多的，且由于膜中所含的氢很多，根据制造方法可以产生正或负固定电子。
因此由于在表面形成电位势垒，妨碍了载流子的移动，故减少了实验的表面复合速度。结果：由于氧化硅膜的堆积，在600nm前后的中长波段范围内的响应效率增加的同时，还可以显著的改善300~450nm短波长范围的效率，这是由于减少了实际的表面复合速度引起的，其效果是正载流子的时候更显著。