反渗透设备膜表面易生成碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等沉积物。
第1题:
反渗透设备膜表面结金属氧化物时,一般用()进行清洗。
A柠檬酸
BEDTA
C三聚磷酸钠
D氨基磺酸
第2题:
金属氧化物沉积、胶体污染通常发生在反渗透设备的第二段膜元件内。
A对
B错
第3题:
反渗透设备膜表面陈基金属氧化物后,一般用()进行清洗。
A.柠檬酸
B.EDTU
C.三聚磷酸钠
D.氨基磺酸
第4题:
0.2%的HCl用作反渗透清洗时,对()污染物清洗效果较好。
第5题:
当反渗透设备进水铁离子含量较高,膜表面有生成金属氧化物的倾向,可采用添加化学分散剂的方法预防。
A对
B错
第6题:
反渗透设备膜表面结金属氧化物时,一般用氨基磺酸进行清洗。
A对
B错
第7题:
反渗透设备膜表面易生成碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等沉积物。
A对
B错
第8题:
反渗透设备膜表面易生成的沉积物是()。
A.碳酸钠、硫酸钠、胶体硅、有机物等
B.氢氧化镁、氯化钙、硫酸钙、肢体硅、有机物等
C.碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等
D.金属氧化物、氯化钙、硫酸钙、胶体硅、有机物等
第9题:
反渗透设备膜表面结碳酸钙水垢时,一般用柠檬酸进行清洗。
A对
B错
第10题:
反渗透膜的污染有()