第1题:
粗加工用定位基准是粗基准,精加工用定位基准是精基准。
第2题:
自位基准是以加工面本身作为精基准,多用于精加工或光整加工工序中,这是由于()。
第3题:
工艺基准是指在零件的工艺过程中所采用的基准。按照用途不同,工艺基准又可分为工序基准.定位基准.测量基准和()。
A.设计基准
B.装配基准
C.粗基准
D.精基准
第4题:
粗基准是指粗加工时所用的基准;精基准是指精加工时所用的基准。
第5题:
精基准是在精加工中使用的基准。
第6题:
粗基准是粗加工所用的基准,精基准是精加工所用的基准。
第7题:
自为基准是指以()作为定位基准,多用于精加工或光整加工工序,这是由于保证加工表面的加工余量小且均匀。
第8题:
精加工时使用的定位基准称为精基准。
此题为判断题(对,错)。
第9题:
自为基准是指以()作为定位基准,多用于精加工或光整加工工序,这是由于保证加工表面的()且均匀。
第10题:
用()作为的定位基准,称为精基准或光基准。