第1题:
合成催化剂还原时同平面温差大,原因有哪些?如何处理?
第2题:
触媒床层同平面温差大的原因是什么,正确的是()
第3题:
A.严格控制升温速率小于等于25℃/h
B.出水量20—40公斤/小时
C.平面(同端面)温差小于5℃
D.提H2提温同时进行
第4题:
催化剂装填不好,将导致反应器径向温差增大
第5题:
低变催化剂还原不彻底有何现象?如何处理?
第6题:
造成合成塔催化剂同平面温差大的原因是()
第7题:
催化剂层同平面温差较大,塔温不易控制,给调节温度、正常操作带来较大的困难
第8题:
催化剂层同一平面温差大的处理方法?
第9题:
在预处理还原过程中,催化剂的活性和选择性也随着预处理还原过程中控制氧化铁和铁碳化物的形成以及含量而改变。
第10题:
催化剂层同平面温差大的处理措施:先升温升压再降温降压,以缩小平面温差。