触媒升温还原过程中,严格按升温还原方案进行,严格执行三低、三稳、三不、三控制原则。()
第1题:
A.触媒装填时,严格按方案进行,严防架桥现象
B.不必执行三低、三稳、三不、三控制原则
C.严格控制催化剂床层温度
D.稳定操作压力,尽量减少不必要停车
第2题:
此题为判断题(对,错)。
第3题:
A.三低:低温出水、低氢还原、还原后有一个低负荷生产期
B.三稳:提温稳、补氢稳、出水稳。
C.三不准:提温提氢不准同时进行;水分不准带入合成塔;不准长时间高温出水
D.三控制:控制补H2速度;控制CO2浓度;控制出水速度
第4题:
催化剂还原过程“三”原则错误的是?()
第5题:
此题为判断题(对,错)。
第6题:
A.低温出水
B.低氢还原
C.还原后有一个低负荷生产期
D.高温出水
第7题:
此题为判断题(对,错)。
第8题:
A.提温稳
B.补H2稳
C.出水稳
D.补N2稳
第9题:
催化剂升温还原过程中的三高为()、()、(),两低为()、()。
第10题:
合成催化剂升温还原三不准:即提温提氢不准同时进行;水份不准带入塔内;不准长时间高温出水。()