第1题:
工业废水处理的吸附法中,吸附过程影响着吸附速度,影响吸附速度的过程有( )。
A.吸附质向活性炭颗粒表面的扩散过程
B.吸附质在活性炭颗粒内部孔隙间的扩散阶段
C.吸附在活性炭颗粒内部孔隙表面上的吸附反应阶段
D.吸附在活性炭颗粒内部孔隙表面上的扩散阶段
第2题:
多相催化反应中,作用物从催化剂外表面扩散进入孔隙内部的过程叫做()
第3题:
此题为判断题(对,错)。
第4题:
边界摩擦是指接触表面吸附着一层很薄的边界膜的摩擦现象,接触情况介于干摩擦与流体摩擦两种状态之间。
第5题:
硅晶片上之所以可以产生薄膜,出始于布满在晶片表面的许多气体分子或其它粒子,它们主要是通过()到达晶片表面的。
第6题:
A、外扩散
B、表面扩散
C、内扩散
D、孔扩散
第7题:
晶片表面上的粒子是通过()到达晶片的表面。
第8题:
A、表面张力升高,正吸附
B、表面张力降低,正吸附
C、表面张力升高,负吸附
D、表面张力显著降低,正吸附
答案应为B,表面活性物质可使溶液的表面张力降低,为正吸附,能使溶液表面张力显著降低的成为表面活性剂。
第9题:
由于表面吸附引起的共沉淀,吸附层主要吸附的离子是(),扩散层中主要吸附的离子是()。
第10题:
胶粒带电的原因主要有下面两种情况,它们是()