对
错
第1题:
第2题:
第3题:
晶体硅片蚀刻清洗的生产工艺有酸性蚀刻和碱性蚀刻两种,其中酸性蚀刻是采用()和硝酸的混合溶液,醋酸和磷酸当缓冲剂,一般去除约10-20μm厚的表面层。
第4题:
浸泡式蚀刻
鼓泡式蚀刻
泼溅式蚀刻
喷淋式蚀刻
第5题:
第6题:
第7题:
鼓泡式蚀刻液的酸性更强
鼓泡式蚀刻通入空气
鼓泡式蚀刻通入氧气
第8题:
第9题:
第10题:
单选题碱性氯化铜的蚀刻液密度太低,会加大侧蚀量,这是因为()。A 蚀刻液的密度太低,造成温度过低,反应速度过慢B 蚀刻液的密度太低,溶液中的二价铜离子含量偏低C 蚀刻液的密度太低,即溶液的pH值太低D 蚀刻液的密度太低,溶液中的氯化铵含量太少
多选题酸性氯化铜蚀刻若操作体系的温度太高,会使()。A盐酸挥发B抗蚀层破坏C溶液组分比例失调D无影响
判断题在酸碱性氯化铜蚀刻液中都是含铜量越多越好。A 对B 错
多选题在碱性氯化铜蚀刻中,造成蚀刻不足的原因可能有()。A传送速度太快BpH值太低C蚀刻液温度不足D喷淋压力不足
判断题碱性氯化铜蚀刻液是目前应用最广的图形蚀刻溶液。A 对B 错
多选题在碱性氯化铜蚀刻中,造成蚀刻过度的原因可能有()。A传送速度太慢BpH值过高C蚀刻液比重偏低D蚀刻液温度不足
判断题碱性氯化铜蚀刻液的再生的最常用的方法是空气再生法。A 对B 错
多选题下列为碱性氯化铜蚀刻液特点的有()。A蚀刻速率快B蚀刻速率比较容易控制C溶铜量大D再生容易
多选题蚀刻液的种类有()。A酸性蚀刻液B碱性蚀刻液C中性蚀刻液D不知道
单选题酸性氯化铜蚀刻中,可通过增加哪种离子的含量来减少氯化亚铜沉淀的生成()。A 二价铜离子B 一价铜离子C 氯离子D 钠离子