填空题试件的几何形状或磁导率的变化等均可形成磁痕，这些磁痕是（）显示

第1题：

关于磁痕显示的叙述，正确的是（）

• A、非相关显示不是由漏磁场吸附磁粉磁粉形成的
• B、表面缺陷磁痕一般宽而模糊、轮廓不清晰
• C、近表面缺陷磁痕一般浓密清晰、瘦直或弯曲
• D、以上都不对

第2题：

下列关于对磁痕的观察和分析的叙述中，正确的是（）

• A、当发现磁痕时，必须观察表面有无氧化皮、铁锈等附着物，以免误判；
• B、为确定磁痕是否由缺陷引起，有时需把磁痕擦去，重新探伤，检验其重复性；
• C、如果试件上出现遍及表面的磁痕显示，应降低安培值重新磁化；
• D、以上都是

第3题：

下列关于磁痕的叙述中，正确的是：（）

• A、在没有缺陷的位置处出现的磁痕，一般称为伪磁痕
• B、表面裂纹所形成的磁痕一般是很清晰而明显的
• C、由于被磁化的试件相互接触造成的局部磁场畸变而产生的虚假磁痕称为磁写
• D、以上都是

第4题：

相关显示是由漏磁场吸附磁粉形成的磁痕显示。

第5题：

相关显示与非相关显示是由漏磁场形成的磁痕显示，而伪显示不是由漏磁场形成的磁痕显示。

第6题：

形成磁痕的原因是（）。

• A、由于缺陷的漏磁场
• B、由于截面突变等形状变化处
• C、V由于材料组织变化处
• D、以上都是

第7题：

平行或接近于试件表面的键槽或钻孔会产生与试件内部形状对应的（）的磁痕

第8题：

缺陷磁痕的观察应在磁痕形成后立即进行。

第9题：

试件的几何形状或磁导率的变化等形成的磁痕是无关显示

第10题：

JB/T4730.4-2005标准对磁痕显示的分类是按磁痕的产生原因、形状和方向进行的，没有涉及缺陷的定性。