布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起( )内，仍可以向国务院知识产权行政部门提出登记申请。A.6个月 B.1年内 C.2年内

在我国，集成电路布图设计专有权的保护期为（）.

A.10年，自布图设计创作完成之日起计算

B.15年，自布图设计登记申请之日起计算

C.15年，自布图设计首次投入商业利用之日起计算

D.10年，自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算

布图设计权利人对国务院知识产权行政部门关于使用布图设计非自愿许可的决定不服的，可以自收到通知之日起（）内向人民法院起诉。

A.3日

B.30日

C.3个月

D.1年

A.创作完成之日

B.国务院知识产权行政部门登记之日

C.首次投入商业利用之日

根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列说法哪些是正确的?( )

A、布图设计专有权经国家知识产权局登记产生

B、布图设计专有权自创作完成之日起自动产生

C、布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计登记申请之日起计算，

D、布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计创作完成之日起计算

在我国，布图设计专有权的保护期为几年？无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起几年后，不再受保护？

布图设计已经投入商业利用的，在申请布图设计登记之时，申请人应该提交含有该布图设计的（）。

A.文字资料

B.集成电路样品

C.设计原稿

D.布图设计图纸

布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起( )内，未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记。

A、1年

B、2年

C、3年

D、4年