工学
多选题采用二氧化硅薄膜作为栅极氧化层，是利用其具有的（）A高电阻率；B高化学稳定性；C低介电常数；D高介电强度。
题目
多选题
采用二氧化硅薄膜作为栅极氧化层，是利用其具有的（）
A
高电阻率；
B
高化学稳定性；
C
低介电常数；
D
高介电强度。
参考答案和解析
正确答案：
D,A
解析：
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相似问题和答案
第1题：
目前常用的嗅敏检漏仪，采用以（）为主的金属氧化物半导体作为检测元件。
- A、二氧化锡
- B、二氧化硅
- C、二氧化铁
- D、二氧化锌
正确答案:A
第2题：
热分解化学气相淀积二氧化硅是利用（）化合物，经过热分解反应，在基片表面淀积二氧化硅。
正确答案:含有硅的化合物
第3题：
场效应管的工作原理是利用栅极电压对()电流的控制作用来作为放大器件。
A.原极；
B.漏极；
C.栅极；
参考答案：B
第4题：
晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对二氧化硅的高选择性。超薄的（）使得在刻蚀多晶硅电极时对它的刻蚀要尽可能的小。
- A、n型掺杂区
- B、P型掺杂区
- C、栅氧化层
- D、场氧化层
正确答案:C
第5题：
二氧化硅膜的质量要求有（）。
- A、薄膜表面无斑点
- B、薄膜中的带电离子含量符合要求
- C、薄膜表面无针孔
- D、薄膜的厚度达到规定指标
- E、薄膜厚度均匀，结构致密
正确答案:A,B,C,D,E
第6题：
二氧化硅薄膜在集成电路中具有怎样的应用？
正确答案:①器件保护（避免划伤和污染），因sio2致密；
②表面钝化（饱和悬挂键，降低界面态；需一定厚度，降低漏电流等）；
③用作绝缘介质和隔离（LOCOS，STI）如：隔离（如场氧，需要一定的厚度）；
④绝缘栅（膜厚均匀，无电荷和杂质，需干氧氧化）、多层布线绝缘层、电容介质等；
⑤选择性扩散掺杂的掩膜。
第7题：
下列几种氧化方法相比，哪种方法制得的二氧化硅薄膜的电阻率会高些（）。
- A、干氧氧化
- B、湿氧氧化
- C、水汽氧化
- D、与氧化方法无关
正确答案:A
第8题：
现代计算机系统的内存主要采用的是()。
A.二氧化硅
B.铝金属薄膜材质
C.半导体存储器件
D.聚碳酸酯材质
参考答案：C
第9题：
干氧氧化法具备以下一系列的优点（）。
- A、生长的二氧化硅薄膜均匀性好
- B、生长的二氧化硅干燥
- C、生长的二氧化硅结构致密
- D、生长的二氧化硅是很理想的钝化膜
- E、生长的二氧化硅掩蔽能力强
正确答案:A,B,C,D,E
第10题：
二氧化硅薄膜的折射率是表征其（）学性质的重要参数。
- A、电
- B、磁
- C、光
- D、热
正确答案:C