第1题:
在扩散之前在硅表面先沉积一层杂质,在整个过程中这层杂质作为扩散的杂质源,不再有新的杂质补充,这种扩散方式称为:()
第2题:
在空位扩散中,如果迁移的空位的原子是杂质原子,扩散称为()。
第3题:
恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布?()
第4题:
在催化裂化反应过程中,产品分子自催化剂内表面脱离的过程,称为()。
第5题:
在催化裂化反应过程中,原料分子到催化剂内表面的过程,称为()。
第6题:
在空位扩散中,如果迁移到空位的原子是基质原子,扩散属于()。
第7题:
连续稳态扩散常常用高斯烟羽模型,下面属于高斯烟羽模型基本假设的是()。
第8题:
恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为()分布。
第9题:
在催化裂化反应过程中,原料分子到催化剂内表面的过程,称为()过程。
第10题:
在催化裂化反应过程中,原料分子由主气流到催化剂表面的过程,称为()。