工学
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相似问题和答案
第1题：
外延生长方法比较多，其中主要的有（）外延、（）外延、金属有机化学气相外延、分子束外延、（）、固相外延等。
正确答案:化学气相；液相；原子束外延
第2题：
束丝有什么特点？
正确答案: 由于束线中各单线均向一个方向扭绞，在弯曲时各单线之间滑动余量很大，抗弯曲力小，所以束线的弯曲性能特别好，对于需要柔软、并用语经常移动的场合的电线电缆产品就采用束线作导电线芯。
第3题：
利用外延生长技术在衬底上形成所需的外延层后,还要经过什么工艺,才能形成一颗颗独立的LED芯片?
答案：电极成型、研磨、切割等工艺。
第4题：
简述薄膜材料的形成过程，什么是分子束外延？什么是超晶格？
正确答案: 薄膜形成过程：一般分为凝结过程，岛形成与结合生长过程。
大多数薄膜都是以岛状形式形成和长大，即在基体表面上吸附原子凝结后，在表面上扩散迁移形成晶核，晶核再结合其它吸附原子逐渐长大形成小岛，岛再结合其他气相原子便形成薄膜，因此薄膜形成是由形核开始的。
形核首先经历吸附与凝结过程，原子相互碰撞结合成原子对或小原子团并凝结在基体表面上；这种原子团和其他吸附原子碰撞结合或释放出一个单原子，这个过程反复进行，使原子团中的原子数超过某一临界值，成为临界核，临界核继续与其他原子碰撞结合，只向长大方向发展形成稳定的原子团，称为稳定核；稳定核再捕获其他吸附原子，或者入射原子束中的气相原子直接碰撞在稳定核上被粘附，使稳定核进一步长大成为小岛。通过上述讨论可知，薄膜形成经历了吸附，凝结，临界核形成与长大，稳定核形成长大，最后成为小岛的物理过程。
实际上形核长大只是薄膜形成的开始，薄膜形成的过程是指形成稳定核之后的过程；同样，薄膜生长模式是指薄膜形成的宏观方式。在稳定膜形成之后，岛状薄膜的形成过程，分为岛状、联并、沟道和连续膜四个阶段。岛状阶段是指在核长大变成小岛的过程中，平行基体表而方向的长大速度明显大于垂直方向的长大速度，说明基体表面上吸附原子的扩散迁移碰撞结合是主要的。联并阶段是指岛在不断长大过程中，岛间距离逐渐缩小，最后相邻小岛相互联接合并成一个大岛。沟道阶段是在岛联并后，新岛继续长大，当岛的分布达到临界值时，小岛相互聚结形成网状结构。网状结构中不规则地分布着5—20nm宽的沟渠。连续膜阶段是在沟渠和孔洞消失之后，入射的气相原子直接吸附在薄膜上，通过联并作用形成不同结构的薄膜。
分子束外延：是一种在晶体基片上生长高质量的晶体薄膜的新技术。在超高真空条件下，由装有各种所需组分的炉子加热而产生的蒸气，经小孔准直后形成的分子束或原子束，直接喷射到适当温度的单晶基片上，同时控制分子束对衬底扫描，就可使分子或原子按晶体排列一层层地“长”在基片上形成薄膜。该技术的优点是：使用的衬底温度低，膜层生长速率慢，束流强度易于精确控制，膜层组分和掺杂浓度可随源的变化而迅速调整。用这种技术已能制备薄到几十个原子层的单晶薄膜，以及交替生长不同组分、不同掺杂的薄膜而形成的超薄层量子阱微结构材料。
超晶格：由两种或以上不同、厚度d极小的薄层材料交替生长在一起而得到的一种多周期结构材料。薄层厚度d远大于材料的晶格常数a，但接近或小于电子的自由程。
第5题：
（）年1月17日，我国第一台分子束外延生长设备在辽宁研制成功。
- A、1976
- B、1977
- C、1978
正确答案:C
第6题：
延生长方法比较多，其中主要的有（）外延、（）外延、金属有机化学气相外延、（）外延、原子束外延、固相外延等。
正确答案:化学气相；液相；分子束
第7题：
LED的材料制备包括什么（）。
- A、外延片的制备
- B、衬底材料的制备
- C、外延片的生长
- D、衬底材料的生长
正确答案:B,C
第8题：
什么是固定资产?有什么特点?什么是外延扩大再生产和内涵扩大再生产?
参考答案：(1)一般是指使用年限超过一年，单位价值在规定标准以上，并且在使用过程中保持原有实物形态的资产。
(2)使用期限较长，一般均在1年以上;能够多次参加生产过程，不改变实物形态;不打算在正常生产、经营中销售，而是为了在生产经营中使用。
(3)固定资产的扩大再生产是在扩大规模上进行的固定资产的建造和购置活动。一方面可以通过追加投资，增加生产要素实现;另一方面可以通过挖掘潜力，搞革新，扩大生产规模。前者为外延扩大再生产，后者为内涵扩大再生产。
(2)使用期限较长，一般均在1年以上;能够多次参加生产过程，不改变实物形态;不打算在正常生产、经营中销售，而是为了在生产经营中使用。
(3)固定资产的扩大再生产是在扩大规模上进行的固定资产的建造和购置活动。一方面可以通过追加投资，增加生产要素实现;另一方面可以通过挖掘潜力，搞革新，扩大生产规模。前者为外延扩大再生产，后者为内涵扩大再生产。
第9题：
离子束合成法有什么特点？其基本原理是什么？
正确答案:特点：1.离子束合成技术中的靶既是离子束轰击的目标，又是另一个被汽化的气态物质的宿居地。
2.离子束法靶上的溅射是要克服的损失。
3.离子束法的源物质可进入基底靶体的内层，并能改变靶材的微观结构和组成。
4.离子束合成不受热力学条件和常规反应的限制。
基本原理：离子束又称为离子注入，是通过高能离子束轰击固态基材——靶，而把靶室中已由其他方式汽化的气态源物质直接强行打入固态基体靶内的非平衡过程。
第10题：
划分子项的外延之和必须等于划分母项的外延。
正确答案:正确