第2题:
问答题
请根据所学知识,简述离子镀
正确答案:
离子镀是在真空蒸镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜技术。从广义上讲,离子镀的膜层在沉积的同时又受到高能离子束的轰击。这种粒子流的组成可以是离子,也可以是通过能量交换而形成的高能中性离子。这种轰击使界面和膜层的性质发生某些变化,如膜层对基片的附着力、覆盖情况、膜层状态、密度以及内应力等。
离子镀能利用辉光放电所产生的高能粒子对基片表面溅射清洗,并将洁净的基片表面保留到全过程,因而能获得良好的附着力。离子镀比真空蒸镀的绕镀性好。离子镀过程中的带能粒子不仅使膜层附着良好,分布均匀,并且使其质地密致,针孔少。有时还能提高基片的延伸率和抗疲劳性。由于离子镀的附着力好,使原来在蒸镀中不能匹配的基片材料和镀料,可以用离子镀完成,还可以镀出各种氧化物、氮化物和碳化物的膜层。
解析:
暂无解析