工学
问答题描述投影掩膜版和光掩膜版的区别？
题目
问答题
描述投影掩膜版和光掩膜版的区别？
参考答案和解析
正确答案：
投影掩膜版它包括了要在硅片上重复生成的图形。这种图形可能仅包含一个管芯，也可能是几个光掩膜版通常称为掩膜版，包含了对于整个硅片来说确定一工艺层所需的完整管芯阵列。
解析：
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相似问题和答案
第1题：
金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜，带胶蒸发或溅射所需的金属，然后在去除光致抗蚀剂膜的同时，把胶膜上的金属一起去除干净。（）
正确答案:正确
第2题：
在进行空间分析时，经常设置Mask（掩膜），设置掩膜的作用是什么？
正确答案:掩膜是利用遮盖或隐蔽要素的视觉处理技术来增强地图表现力的一种手段，让地图更加清晰，经常用它来处理多个图层由于叠放而出现压盖冲突的情况。掩膜的实质是包含一些多边形要素的要素类，生成掩膜之后，可用它来掩盖某个或某几个图层，使其在掩膜的位置不显示。
第3题：
能够用紫外光擦除ROM中的程序的只读存储器称为()。
A.掩膜ROM
B.PROM
C.EPROM
D.EEPROM
参考答案：C
第4题：
80C51含（）掩膜ROM。
正确答案:4KB
第5题：
版膜未干即晒版会（）
- A、败版
- B、版膜较厚
- C、印纹较细
- D、版膜冲不掉
正确答案:A
第6题：
器件的横向尺寸控制几乎全由（）来实现。
- A、掩膜版
- B、扩散
- C、光刻
正确答案:C
第7题：
完整印版应具备（）
- A、网布、版膜
- B、版框、网布
- C、版框、版膜
- D、版框、网布、版膜
正确答案:D
第8题：
将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触，再用紫外光照射来进行曝光的方法，称为（）曝光。
- A、接触
- B、接近式
- C、投影
正确答案:A
第9题：
能用紫外线光擦除ROM中的程序的只读存储器为（）
- A、掩膜ROM
- B、PROM
- C、EPROM
- D、EEPROM
正确答案:C
第10题：
按照数据写入方式特点的不同，ROM可分为掩膜ROM，（），（）。
正确答案:PROM；EPROM