与试件上总的磁通密度有关
与缺陷自身高度有关
磁化方向与缺陷垂直时漏磁通最大
以上都对
第1题:
关于零点漂移产生的原因下列叙述正确的是()。
第2题:
在磁粉探伤时,缺陷处所产生的漏磁通的大小与通过工件的磁通密度无关
第3题:
下列关于漏磁通的叙述,正确的是()
第4题:
试件上的磁通密度在大于、等于饱和磁通密度的80%时,缺陷漏磁通开始急剧增大
第5题:
下列有关缺陷所形成的漏磁通的叙述()是正确的
第6题:
下列关于缺陷漏磁通的叙述,正确的是()
第7题:
试件上的磁通密度在大于、等于饱和磁通密度的()%时,缺陷漏磁通开始急剧增大
第8题:
当磁化强度、缺陷种类和大小为一定时,缺陷处的漏磁通密度受磁化方向的影响。
第9题:
在磁粉探伤时,缺陷处所产生的漏磁通的大小与通过工件的()有关,与缺陷的()和()有关
第10题:
下列有关缺陷所形成的漏磁通的叙述中哪个是正确的()