工学
判断题离子注入的能量远低于离子刻蚀和离子溅射沉积。A 对B 错
题目
判断题
离子注入的能量远低于离子刻蚀和离子溅射沉积。
A
对
B
错
参考答案和解析
正确答案：
错
解析：
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第1题：
离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的（）。
- A、能量
- B、剂量
正确答案:B
第2题：
离子注入层的深度主要取决于离子注入的（）。
- A、能量
- B、剂量
正确答案:A
第3题：
离子束加工包括( )。
A.离子束溅射去除加工
B.离子束溅射镀膜
C.离子束溅射注入
D.离子束焊接
参考答案：ABC
第4题：
有机性气体大多产生在下列哪道工艺（）。
- A、离子注入
- B、刻蚀
- C、扩散
- D、光刻
正确答案:D
第5题：
（）是与气体辉光放电现象密切想关的一种薄膜淀积技术。
- A、蒸镀
- B、离子注入
- C、溅射
- D、沉积
正确答案:C
第6题：
反应离子腐蚀是（）。
- A、化学刻蚀机理
- B、物理刻蚀机理
- C、物理的溅射刻蚀和化学的反应刻蚀相结合
正确答案:C
第7题：
（）是指每个入射离子溅射出的靶原子数。
- A、溅射率
- B、溅射系数
- C、溅射效率
- D、溅射比
正确答案:A
第8题：
铜与氯形成的化合物挥发能力不好，因而铜的刻蚀无法以化学反应来进行，而必须施以（）。
- A、等离子体刻蚀
- B、反应离子刻蚀
- C、湿法刻蚀
- D、溅射刻蚀
正确答案:D
第9题：
（）是通过把被蒸物体加热，利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压来进行薄膜沉积的。
- A、蒸镀
- B、溅射
- C、离子注入
- D、CVD
正确答案:A
第10题：
用高能粒子从某种物质的表面撞击出原子的物理过程叫（）。
- A、蒸镀
- B、离子注入
- C、溅射
- D、沉积
正确答案:C