第1题:
离子注入
第2题:
()方法是大规模集成电路生产中用来沉积不同金属的应用最为广泛的技术。
第3题:
离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的()。
第4题:
第5题:
第6题:
什么叫离子注入,它的特点是什么?
叫离子注入。其特点是深度浅,而在使用中,注入元素仍能继续向里迁移。由于注
入时工件温度低,故不改变基体性能及表面粗糙度。注入时,注入能量及注入深度
能准确控制,注入层结合力强,无剥落现象。
叫离子注入。其特点是深度浅,而在使用中,注入元素仍能继续向里迁移。由于注
入时工件温度低,故不改变基体性能及表面粗糙度。注入时,注入能量及注入深度
能准确控制,注入层结合力强,无剥落现象。
第7题:
第8题:
离子注入层的深度主要取决于离子注入的()。
第9题:
第10题: