工学
问答题简述离子注入设备的主要组成部分
题目
问答题
简述离子注入设备的主要组成部分
参考答案和解析
正确答案：
气体系统、电机系统、真空系统、控制系统、射线系统、电荷中性化系统、晶圆处理系统
解析：
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相似问题和答案
第1题：
例举离子注入设备的5个主要子系统。
正确答案:（1）离子源：待注入物质必须以带电粒子束或离子束的形式存在。注入离子在离子源中产生
（2）引出电极（吸极）和离子分析器：传统注入机吸极系统收集离子源中产生的所有正离子并使它们形成粒子束，离子通过离子源上的一个窄缝得到吸收。
（3）加速管：为了获得更高的速度，出了分析器磁铁，正离子还要再加速管中的电场下进行加速
（4）扫描系统扫描在剂量的统一性和重复性方面起着关键租用。
（5）工艺室------离子束向硅片的注入发生在工艺腔中。
第2题：
简述MRI成像设备的组成部分及作用。
正确答案:⑴磁体。它是成像系统中最重要部分，产生质子极化所需的静电场。
⑵射频系统包括RF发射器和MR接受器。主要功能是发射高稳定度的射频脉冲，后者将能量耦合给共振质子引起振动。
⑶梯度磁场。由三个互相垂直的线圈组成，适当组合两个或三个梯度可以得到投影重建方法所要求的梯度场。
⑷计算机系统FID信号经模/数转换后进入数字处理系统。
⑸显示系统计算出每个象素的数值后，可做灰度等级显示或彩色显示，也可以拍照归档。
第3题：
简述船用VHF收发设备的一般组成及各组成部分的主要作用。
正确答案: 双工器、控制单元、发射机单元、接收机单元、面板单元。
（1）双工器：即双工滤波器，连接在天线、发射机和双工工作的接收机之间。为使双工工作时收发机仍能使用同一天线工作，必须利用双工器对收、发信号进行隔离，以保证通信时接收机不受本台发射信号的干扰或损坏。
（2）控制单元：主要由CPU组成，分别与面板单元、DSC单元、双工器和收发机相连，完成对整机的操作及通信控制。
（3）发射机单元：发射机单元的作用是对话音信号进行处理和调制，向天线输送大功率的调频波，实现无线电波的发射。
（4）接收机单元：接收机单元的作用是将来自天线的已调高频波进行频率变换、信号放大及解调，最终将其还原为原始音频信号，以实现信息的接收。解调后的话音信号经静噪电路和去加重处理后，送入低频功率放大器进行功率放大，以推动耳机、扬声器等相关终端设备工作。
（5）面板单元：由单片机和音频处理电路组成，与显示器、扬声器以及送受话器等外设构成对整机的操作控制。
第4题：
问答题
简述离子注入工艺中退火的主要作用？
正确答案：
由于离子注入所造成的损伤区及畸形团，增加了散射中心及陷阱能级，使迁移率和寿命等半导体参数下降。此外，大部分的离子在被注入时并不位于替位位置，未退火之前的注入区域将呈显高阻区。为（1）激活被注入的离子（使其变成替位杂质）；（2）恢复有序的晶格结构（如果是无定形结构，就谈不上替位杂质与间隙杂质），其目的是恢复迁移率（减少散射中心）和恢复寿命（减少缺陷能级，减少陷阱），必须在适当的时间与温度下将半导体退火。
解析：
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第5题：
简述GSM系统的主要组成部分。
正确答案:由MS/BTS/BSC/MSC/HLR/VLR/EIR组成。
第6题：
离子注入层的深度主要取决于离子注入的（）。
- A、能量
- B、剂量
正确答案:A
第7题：
请简述C3级列控车载设备的主要组成部分？
正确答案: 主机、人机界面、应答器信息接收单元及天线、轨道电路信息读取单元及天线、司法记录单元、列车接口管理单元、速度传感器（含雷达天线）、无线传输单元及GSM-R天线、相关电缆及接线盒、列控设备动态监测装置
第8题：
离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的（）。
- A、能量
- B、剂量
正确答案:B
第9题：
简述薪酬的主要组成部分。
正确答案:（1）基本工资是指报酬中相对不变的那部分。
（2）绩效工资是报酬中的变动部分。
（3）激励工资是与员工将来业绩挂钩的部分。
（4）福利是一种固定的劳动成本，又叫做间接薪酬。
第10题：
问答题
简述离子注入机的各部分工作原理？
正确答案：
离子注入机主要由离子源、分析磁体、加速聚焦器、扫描偏转系统、靶室及终端台和真空系统6大部分组成。
1）离子源的目的是把要注入的杂质原子电离成为离子，形成注入离子束，并具有一定动能（速度）的正离子束。
2）磁分析器 就是根据不同离子其运动半径不同的原理，将不同的离子一一分离开来。
3）加速聚焦器： 离子源的吸极最高负压一般不能达到注入离子能量的要求，如果需要
更高的能量就必须再添加高压进行第二次的加速，完成此功能的就是后加速器。
4）扫描偏转系统： 要使整个硅片表面都能均匀地注入离子，需要束流对硅片进行扫描，对靶片进行大面积离子注入，使整个靶片得到均匀的杂质离子分布。
5）靶室及终端台：让离子束流能注入进去 监测注入的离子数量。
6）真空系统：一般用真空泵和闭合的抽气系统来实现。
1）离子源的目的是把要注入的杂质原子电离成为离子，形成注入离子束，并具有一定动能（速度）的正离子束。
2）磁分析器 就是根据不同离子其运动半径不同的原理，将不同的离子一一分离开来。
3）加速聚焦器： 离子源的吸极最高负压一般不能达到注入离子能量的要求，如果需要
更高的能量就必须再添加高压进行第二次的加速，完成此功能的就是后加速器。
4）扫描偏转系统： 要使整个硅片表面都能均匀地注入离子，需要束流对硅片进行扫描，对靶片进行大面积离子注入，使整个靶片得到均匀的杂质离子分布。
5）靶室及终端台：让离子束流能注入进去 监测注入的离子数量。
6）真空系统：一般用真空泵和闭合的抽气系统来实现。
解析：
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